(뉴스인020 = 김나현 기자) 과학기술정보통신부는 3월 13일 더 플라자 호텔(서울)에서 ‘MoaFab’의 참여기관들이 수행 중인 반도체 분야 고경력 전문가 활용 사업의 성과교류회를 개최한다고 밝혔다.

 

과기정통부는 민간 반도체 기업에서 퇴직한 우수 고경력 전문인력의 경험을 활용하여 공공 나노 공정시설(공공나노팹)의 기술 역량을 높이고 이용자 서비스 지원을 고도화하기 위해 본 사업을 2021년부터 시작했으며, 현재 4개 기관에서 수행 중이다.

 

과기정통부는 작년 3월 반도체 3사(삼성전자, SK하이닉스, DB하이텍)와 모아 팹 기능 고도화를 위한 양해각서를 체결했다. 이를 통해 반도체 3사는 모아 팹에 참여하는 공공 나도 공정시설(공공나노팹)에 첨단 공정장비 등을 지원하고, 고도로 축적된 반도체 기술 및 팹 운영에 필요한 자문을 제공하여 산·학·연 이용자의 모아 팹 활용도 향상에 협력 중이다. 특히, 반도체 3사의 고경력 전문인력을 공공 나노 공정 시설(공공나노팹)이 활용하도록 하여 팹 운영의 전문성 강화와 국내 인재의 해외 유출과 경력 단절 방지를 위해 협력 중이다.

 

이번 행사는 양해각서 체결에 따라 올해 반도체 3사의 고경력 전문인력의 고용을 모아 팹 참여기관에 추가 확대하기에 앞서, 본 성과교류회를 열어 민간 고경력자를 이미 활용 중인 기관들의 성과를 발표하고, 이들의 역할과 활용 방안에 대한 아이디어를 공유하기 위해 마련됐다.

 

본 사업에 참여하고 있는 고경력 전문가들은 반도체 분야에서 평균 25년 이상 종사한 경력자들로서 40여 명이 활약하고 있다. 이들은 민간에서 그간 축적된 경험을 토대로 소자·공정 개발, 장비 설치·유지보수, 회로설계, 측정평가, 팹 운영·관리, 인력 양성, 모아 팹 이용자 지원 조정자(코디네이터) 등 공공 나노 공정시설(공공나노팹)의 다양한 위치에서 중요한 역할을 담당하고 있다.

 

이번 성과교류회에서는 본 사업을 수행한 각 공공나노팹의 기관별 성과를 소개하고, 고경력 전문가들의 개인별 우수사례 발표 등이 이루어진다. 특히, 그간 기존 인력만으로 해결하지 못했던 기술개발, 생산 효율화, 설비관리, 공정 미세화 등의 성공 사례 발표와 함께 기존 인력과 고경력자 간 상호협력을 통한 공공 팹 역량 증진 우수사례들도 소개된다.

 

더불어, 우수 고경력자 포상과 함께 공공 나노 공정시설(공공나노팹) 간 고경력자 활용 기법(기술) 교류 및 고경력자 간 교류(네트워킹) 시간을 통해 본 사업의 활성화를 위한 지식 공유와 공공나노팹 역량 강화 방안의 모색도 함께 이루어질 예정이다.

 

포상자로 선정된 한 고경력 전문가는 “30여 년간 민간 회사에서 근무하고 퇴직한 후 해외 영입(스카우트) 제의도 있었지만, 경쟁국보다 국내 공공 나노 공정시설(나노팹)에서 일하게 되어 스스로에 대한 자부심을 느끼게 됐으며, 정부 지원에 감사하고 이 사업이 더욱 많이 확대되기를 기대한다“라고 말했다. 또 다른 전문가는 “공공 나노 공정 시설(공공나노팹)에 와보니 민간에서의 경험을 활용하면 신규설비 투자가 아니더라도 한층 더 강화된 서비스와 팹 운영·관리도 가능해 보였고, 공공부문에서 연구자와 기업에 충분히 도움이 될 수 있겠다는 생각에 자긍심도 갖게 됐다”라고 말했다.

 

과기정통부 이강우 원천기술 과장은 “첨단 반도체 고경력 전문인력의 해외 유출과 경력 단절을 방지하고, 이들의 숙련된 경험을 공공 나노 공정 시설(공공나노팹)에 접목하여 보다 나은 서비스 제공이 가능하다는 것을 이번 성과교류회를 통해 다시 한번 확인했다”라며, “본 사업을 통해 모아 팹 참여기관들의 기술, 공정, 생산성 등 경쟁력을 지속적으로 강화하여, 국내 반도체 연구생태계 강화를 위해 본 사업의 지속 지원과 확대를 추진할 계획”이라고 밝혔다.